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不同气氛热冲击下Al:WS2薄膜摩擦学性能的响应机理

刘建 剡珍 郝俊英 刘维民

刘建, 剡珍, 郝俊英, 刘维民. 不同气氛热冲击下Al:WS2薄膜摩擦学性能的响应机理[J]. 空间科学学报. doi: 10.11728/cjss2022-0037
引用本文: 刘建, 剡珍, 郝俊英, 刘维民. 不同气氛热冲击下Al:WS2薄膜摩擦学性能的响应机理[J]. 空间科学学报. doi: 10.11728/cjss2022-0037
Response mechanism of tribological properties of WS2 film under different ambient thermal shock[J]. Chinese Journal of Space Science. doi: 10.11728/cjss2022-0037
Citation: Response mechanism of tribological properties of WS2 film under different ambient thermal shock[J]. Chinese Journal of Space Science. doi: 10.11728/cjss2022-0037

不同气氛热冲击下Al:WS2薄膜摩擦学性能的响应机理

doi: 10.11728/cjss2022-0037
基金项目: 国家自然科学基金;国家自然科学基金

Response mechanism of tribological properties of WS2 film under different ambient thermal shock

  • 摘要: 采用磁控溅射技术制备了Al: WS2薄膜。为考察不同气氛热冲击下Al: WS2薄膜摩擦学性能的响应机理,采用自行研制的温度交变真空摩擦试验机开展了真空、氮气及氧气气氛的-100~+250℃的热冲击试验,并对热冲击后Al: WS2薄膜结构、成分以及摩擦学性能进行了研究。研究发现,热冲击后,Al: WS2薄膜柱状晶长大, S含量减少,部分WS2被氧化为WO3,薄膜硬度增加。经真空和氧气热冲击,Al: WS2薄膜摩擦学性能变差。然而,经氮气热冲击后,在Al: WS2薄膜表面出现WO3,并掺入晶体结构,导致层间尺寸的增大,使得摩擦系数降低,由于表面生成的一层WO3的阻碍作用,薄膜寿命延长,因此,氮气热冲击使Al: WS2薄膜摩擦学性能得以提升。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2022-08-07
  • 录用日期:  2022-10-09
  • 修回日期:  2022-09-26
  • 网络出版日期:  2022-12-10

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