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化学物质释放人工改变电离层

黄文耿 古士芬

黄文耿, 古士芬. 化学物质释放人工改变电离层[J]. 空间科学学报, 2005, 25(4): 254-258. doi: 10.11728/cjss2005.04.20050403
引用本文: 黄文耿, 古士芬. 化学物质释放人工改变电离层[J]. 空间科学学报, 2005, 25(4): 254-258. doi: 10.11728/cjss2005.04.20050403
HUANG Wengeng, GU Shifen. Ionospheric Disturbances Produced by Artificially Chemical Releases[J]. Chinese Journal of Space Science, 2005, 25(4): 254-258. doi: 10.11728/cjss2005.04.20050403
Citation: HUANG Wengeng, GU Shifen. Ionospheric Disturbances Produced by Artificially Chemical Releases[J]. Chinese Journal of Space Science, 2005, 25(4): 254-258. doi: 10.11728/cjss2005.04.20050403

化学物质释放人工改变电离层

doi: 10.11728/cjss2005.04.20050403 cstr: 32142.14.cjss2005.04.20050403
基金项目: 

中国科学院空间科学与应用研究中心创新课题资助(2401175)

详细信息
  • 中图分类号: P352

Ionospheric Disturbances Produced by Artificially Chemical Releases

  • 摘要: 考虑中性气体在电离层高度的扩散过程和相应的电离层离子化学过程,研究了利用主动化学物质释放来改变电离层的方法,理论计算了H2O和SF6两种气体释放后电离层随时间的响应过程.结果表明,在电离层高度上气体的扩散过程非常迅速,电离层F区的电子密度有很大程度的减少,而扩散慢且化学反应快的气体对电离层的影响更大,就更加有利于电离层洞的形成.

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2004-11-20
  • 修回日期:  2005-05-08

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